ਤੁਰੰਤ ਪੋਸਟ ਲਈ ਸਾਡੇ ਸੋਸ਼ਲ ਮੀਡੀਆ ਦੀ ਗਾਹਕੀ ਲਓ
ਨਿਰਮਾਣ ਵਿੱਚ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੀ ਜਾਣ-ਪਛਾਣ
ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਨੇ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਵਿਕਾਸ ਦਾ ਅਨੁਭਵ ਕੀਤਾ ਹੈ ਅਤੇ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਖੇਤਰਾਂ ਵਿੱਚ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਏਰੋਸਪੇਸ, ਆਟੋਮੋਟਿਵ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕਸ, ਅਤੇ ਹੋਰ ਬਹੁਤ ਕੁਝ।ਇਹ ਉਤਪਾਦ ਦੀ ਗੁਣਵੱਤਾ, ਲੇਬਰ ਉਤਪਾਦਕਤਾ ਅਤੇ ਆਟੋਮੇਸ਼ਨ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾਉਣ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਭੂਮਿਕਾ ਨਿਭਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਜਦਕਿ ਪ੍ਰਦੂਸ਼ਣ ਅਤੇ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਖਪਤ ਨੂੰ ਘਟਾਉਂਦਾ ਹੈ (ਗੋਂਗ, 2012)।
ਧਾਤੂ ਅਤੇ ਗੈਰ-ਧਾਤੂ ਪਦਾਰਥਾਂ ਵਿੱਚ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ
ਪਿਛਲੇ ਦਹਾਕੇ ਵਿੱਚ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੀ ਪ੍ਰਾਇਮਰੀ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਧਾਤੂ ਸਮੱਗਰੀ ਵਿੱਚ ਰਹੀ ਹੈ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਕਟਿੰਗ, ਵੈਲਡਿੰਗ ਅਤੇ ਕਲੈਡਿੰਗ ਸ਼ਾਮਲ ਹਨ।ਹਾਲਾਂਕਿ, ਖੇਤਰ ਟੈਕਸਟਾਈਲ, ਕੱਚ, ਪਲਾਸਟਿਕ, ਪੌਲੀਮਰ ਅਤੇ ਵਸਰਾਵਿਕ ਵਰਗੀਆਂ ਗੈਰ-ਧਾਤੂ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਵਿੱਚ ਫੈਲ ਰਿਹਾ ਹੈ।ਇਹਨਾਂ ਵਿੱਚੋਂ ਹਰੇਕ ਸਮੱਗਰੀ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਉਦਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਮੌਕੇ ਖੋਲ੍ਹਦੀ ਹੈ, ਹਾਲਾਂਕਿ ਉਹਨਾਂ ਨੇ ਪਹਿਲਾਂ ਹੀ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਤਕਨੀਕਾਂ ਦੀ ਸਥਾਪਨਾ ਕੀਤੀ ਹੈ (Yumoto et al., 2017).
ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੀ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਵਿੱਚ ਚੁਣੌਤੀਆਂ ਅਤੇ ਨਵੀਨਤਾਵਾਂ
ਗਲਾਸ, ਆਟੋਮੋਟਿਵ, ਨਿਰਮਾਣ, ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕਸ ਵਰਗੇ ਉਦਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਇਸਦੇ ਵਿਆਪਕ ਕਾਰਜਾਂ ਦੇ ਨਾਲ, ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਲਈ ਇੱਕ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਖੇਤਰ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਰਵਾਇਤੀ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਕੱਟਣ ਦੇ ਢੰਗ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਸਖ਼ਤ ਮਿਸ਼ਰਤ ਜਾਂ ਹੀਰੇ ਦੇ ਸੰਦ ਸ਼ਾਮਲ ਹੁੰਦੇ ਹਨ, ਘੱਟ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਅਤੇ ਮੋਟੇ ਕਿਨਾਰਿਆਂ ਦੁਆਰਾ ਸੀਮਿਤ ਹੁੰਦੇ ਹਨ।ਇਸਦੇ ਉਲਟ, ਲੇਜ਼ਰ ਕਟਿੰਗ ਇੱਕ ਵਧੇਰੇ ਕੁਸ਼ਲ ਅਤੇ ਸਟੀਕ ਵਿਕਲਪ ਪੇਸ਼ ਕਰਦੀ ਹੈ।ਇਹ ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਮਾਰਟਫ਼ੋਨ ਨਿਰਮਾਣ ਵਰਗੇ ਉਦਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਸਪੱਸ਼ਟ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਜਿੱਥੇ ਲੇਜ਼ਰ ਕੱਟਣ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੈਮਰੇ ਦੇ ਲੈਂਸ ਕਵਰਾਂ ਅਤੇ ਵੱਡੀਆਂ ਡਿਸਪਲੇ ਸਕ੍ਰੀਨਾਂ ਲਈ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ (ਡਿੰਗ ਐਟ ਅਲ., 2019)।
ਉੱਚ-ਮੁੱਲ ਵਾਲੇ ਕੱਚ ਦੀਆਂ ਕਿਸਮਾਂ ਦੀ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ
ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੀਆਂ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਕਿਸਮਾਂ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਆਪਟੀਕਲ ਗਲਾਸ, ਕੁਆਰਟਜ਼ ਗਲਾਸ, ਅਤੇ ਨੀਲਮ ਗਲਾਸ, ਆਪਣੇ ਭੁਰਭੁਰਾ ਸੁਭਾਅ ਕਾਰਨ ਵਿਲੱਖਣ ਚੁਣੌਤੀਆਂ ਪੇਸ਼ ਕਰਦੇ ਹਨ।ਹਾਲਾਂਕਿ, ਉੱਨਤ ਲੇਜ਼ਰ ਤਕਨੀਕਾਂ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਫੇਮਟੋਸੈਕੰਡ ਲੇਜ਼ਰ ਐਚਿੰਗ ਨੇ ਇਹਨਾਂ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੀ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਨੂੰ ਸਮਰੱਥ ਬਣਾਇਆ ਹੈ (ਸਨ ਐਂਡ ਫਲੋਰਸ, 2010)।
ਲੇਜ਼ਰ ਤਕਨੀਕੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ 'ਤੇ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਦਾ ਪ੍ਰਭਾਵ
ਲੇਜ਼ਰ ਦੀ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਨੂੰ ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਕਰਦੀ ਹੈ, ਖਾਸ ਕਰਕੇ ਢਾਂਚਾਗਤ ਸਟੀਲ ਵਰਗੀਆਂ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਲਈ।ਅਲਟਰਾਵਾਇਲਟ, ਦਿਖਣਯੋਗ, ਨੇੜੇ ਅਤੇ ਦੂਰ ਦੇ ਇਨਫਰਾਰੈੱਡ ਖੇਤਰਾਂ ਵਿੱਚ ਨਿਕਾਸ ਕਰਨ ਵਾਲੇ ਲੇਜ਼ਰਾਂ ਦਾ ਪਿਘਲਣ ਅਤੇ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਲਈ ਉਹਨਾਂ ਦੀ ਨਾਜ਼ੁਕ ਸ਼ਕਤੀ ਘਣਤਾ (Lazov, Angelov, & Teirumnieks, 2019) ਲਈ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ।
ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ 'ਤੇ ਆਧਾਰਿਤ ਵਿਭਿੰਨ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ
ਲੇਜ਼ਰ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਦੀ ਚੋਣ ਆਪਹੁਦਰੀ ਨਹੀਂ ਹੈ ਪਰ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਅਤੇ ਲੋੜੀਂਦੇ ਨਤੀਜਿਆਂ 'ਤੇ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਨਿਰਭਰ ਕਰਦੀ ਹੈ।ਉਦਾਹਰਨ ਲਈ, UV ਲੇਜ਼ਰ (ਛੋਟੇ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਵਾਲੇ) ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਉੱਕਰੀ ਅਤੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਮਸ਼ੀਨਿੰਗ ਲਈ ਬਹੁਤ ਵਧੀਆ ਹਨ, ਕਿਉਂਕਿ ਉਹ ਵਧੀਆ ਵੇਰਵੇ ਪੈਦਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ।ਇਹ ਉਹਨਾਂ ਨੂੰ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਅਤੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕ ਉਦਯੋਗਾਂ ਲਈ ਆਦਰਸ਼ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਇਸਦੇ ਉਲਟ, ਇਨਫਰਾਰੈੱਡ ਲੇਜ਼ਰ ਆਪਣੀ ਡੂੰਘੀ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਸਮਰੱਥਾ ਦੇ ਕਾਰਨ ਮੋਟੇ ਪਦਾਰਥਾਂ ਦੀ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਲਈ ਵਧੇਰੇ ਕੁਸ਼ਲ ਹਨ, ਉਹਨਾਂ ਨੂੰ ਭਾਰੀ ਉਦਯੋਗਿਕ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਢੁਕਵਾਂ ਬਣਾਉਂਦੇ ਹਨ।(ਮਜੂਮਦਾਰ ਅਤੇ ਮੰਨਾ, 2013) ਇਸੇ ਤਰ੍ਹਾਂ, ਗ੍ਰੀਨ ਲੇਜ਼ਰ, ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ 532 nm ਦੀ ਤਰੰਗ ਲੰਬਾਈ 'ਤੇ ਕੰਮ ਕਰਦੇ ਹਨ, ਘੱਟੋ ਘੱਟ ਥਰਮਲ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦੇ ਨਾਲ ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਦੀ ਲੋੜ ਵਾਲੇ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਵਿੱਚ ਆਪਣਾ ਸਥਾਨ ਲੱਭਦੇ ਹਨ।ਇਹ ਸਰਕਟ ਪੈਟਰਨਿੰਗ, ਫੋਟੋਕੋਏਗੂਲੇਸ਼ਨ ਵਰਗੀਆਂ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਲਈ ਮੈਡੀਕਲ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ, ਅਤੇ ਸੂਰਜੀ ਸੈੱਲ ਨਿਰਮਾਣ ਲਈ ਨਵਿਆਉਣਯੋਗ ਊਰਜਾ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕਸ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਹਨ।ਗ੍ਰੀਨ ਲੇਜ਼ਰਾਂ ਦੀ ਵਿਲੱਖਣ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਉਹਨਾਂ ਨੂੰ ਪਲਾਸਟਿਕ ਅਤੇ ਧਾਤਾਂ ਸਮੇਤ ਵਿਭਿੰਨ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਨੂੰ ਮਾਰਕ ਕਰਨ ਅਤੇ ਉੱਕਰੀ ਕਰਨ ਲਈ ਵੀ ਢੁਕਵੀਂ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ, ਜਿੱਥੇ ਉੱਚ ਵਿਪਰੀਤ ਅਤੇ ਘੱਟੋ-ਘੱਟ ਸਤਹ ਨੁਕਸਾਨ ਦੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਹਰੇ ਲੇਜ਼ਰਾਂ ਦੀ ਇਹ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਲੇਜ਼ਰ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਵਿੱਚ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਦੀ ਚੋਣ ਦੇ ਮਹੱਤਵ ਨੂੰ ਰੇਖਾਂਕਿਤ ਕਰਦੀ ਹੈ, ਖਾਸ ਸਮੱਗਰੀ ਅਤੇ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਅਨੁਕੂਲ ਨਤੀਜਿਆਂ ਨੂੰ ਯਕੀਨੀ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ।
ਦ525nm ਗ੍ਰੀਨ ਲੇਜ਼ਰ525 ਨੈਨੋਮੀਟਰ ਦੀ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ 'ਤੇ ਇਸਦੀ ਵੱਖਰੀ ਹਰੀ ਰੋਸ਼ਨੀ ਦੇ ਨਿਕਾਸ ਦੁਆਰਾ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਕਿਸਮ ਦੀ ਲੇਜ਼ਰ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਹੈ।ਇਸ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ 'ਤੇ ਗ੍ਰੀਨ ਲੇਜ਼ਰ ਰੈਟਿਨਲ ਫੋਟੋਕੋਏਗੂਲੇਸ਼ਨ ਵਿੱਚ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਲੱਭਦੇ ਹਨ, ਜਿੱਥੇ ਉਨ੍ਹਾਂ ਦੀ ਉੱਚ ਸ਼ਕਤੀ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਲਾਭਦਾਇਕ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਉਹ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਵਿੱਚ ਵੀ ਸੰਭਾਵੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਲਾਭਦਾਇਕ ਹਨ, ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਉਨ੍ਹਾਂ ਖੇਤਰਾਂ ਵਿੱਚ ਜਿਨ੍ਹਾਂ ਲਈ ਸਟੀਕ ਅਤੇ ਨਿਊਨਤਮ ਥਰਮਲ ਪ੍ਰਭਾਵ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੀ ਲੋੜ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।.524–532 nm 'ਤੇ ਲੰਬੀ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਵੱਲ ਸੀ-ਪਲੇਨ GaN ਸਬਸਟਰੇਟ 'ਤੇ ਹਰੇ ਲੇਜ਼ਰ ਡਾਇਡਸ ਦਾ ਵਿਕਾਸ ਲੇਜ਼ਰ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਤਰੱਕੀ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਵਿਕਾਸ ਖਾਸ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੀ ਲੋੜ ਵਾਲੇ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਹੈ
ਨਿਰੰਤਰ ਵੇਵ ਅਤੇ ਮਾਡਲਲਾਕਡ ਲੇਜ਼ਰ ਸਰੋਤ
ਲਗਾਤਾਰ ਵੇਵ (CW) ਅਤੇ ਮਾਡਲਲਾਕ ਕੀਤੇ ਅਰਧ-CW ਲੇਜ਼ਰ ਸਰੋਤਾਂ ਨੂੰ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਜਿਵੇਂ ਕਿ 1064 nm 'ਤੇ ਨੇੜੇ-ਇਨਫਰਾਰੈੱਡ (NIR), 532 nm 'ਤੇ ਹਰਾ, ਅਤੇ 355 nm 'ਤੇ ਅਲਟਰਾਵਾਇਲਟ (UV) ਨੂੰ ਲੇਜ਼ਰ ਡੋਪਿੰਗ ਚੋਣਵੇਂ ਐਮੀਟਰ ਸੋਲਰ ਸੈੱਲਾਂ ਲਈ ਮੰਨਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਵੱਖ-ਵੱਖ ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਦੇ ਨਿਰਮਾਣ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਅਤੇ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਲਈ ਪ੍ਰਭਾਵ ਹਨ (ਪਟੇਲ ਐਟ ਅਲ., 2011)।
ਵਾਈਡ ਬੈਂਡ ਗੈਪ ਸਮੱਗਰੀ ਲਈ ਐਕਸਾਈਮਰ ਲੇਜ਼ਰ
Excimer ਲੇਜ਼ਰ, ਇੱਕ UV ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ 'ਤੇ ਕੰਮ ਕਰਦੇ ਹਨ, ਕੱਚ ਅਤੇ ਕਾਰਬਨ ਫਾਈਬਰ-ਰੀਇਨਫੋਰਸਡ ਪੋਲੀਮਰ (CFRP) ਵਰਗੀਆਂ ਚੌੜੀਆਂ-ਬੈਂਡਗੈਪ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਕਰਨ ਲਈ ਢੁਕਵੇਂ ਹਨ, ਉੱਚ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਅਤੇ ਨਿਊਨਤਮ ਥਰਮਲ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦੀ ਪੇਸ਼ਕਸ਼ ਕਰਦੇ ਹਨ (ਕੋਬਾਯਾਸ਼ੀ ਐਟ ਅਲ., 2017)।
Nd: ਉਦਯੋਗਿਕ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ YAG ਲੇਜ਼ਰ
Nd:YAG ਲੇਜ਼ਰ, ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਟਿਊਨਿੰਗ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਉਹਨਾਂ ਦੀ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਦੇ ਨਾਲ, ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਦੀ ਇੱਕ ਵਿਸ਼ਾਲ ਸ਼੍ਰੇਣੀ ਵਿੱਚ ਵਰਤੇ ਜਾਂਦੇ ਹਨ।1064 nm ਅਤੇ 532 nm ਦੋਵਾਂ 'ਤੇ ਕੰਮ ਕਰਨ ਦੀ ਉਨ੍ਹਾਂ ਦੀ ਯੋਗਤਾ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿੱਚ ਲਚਕਤਾ ਦੀ ਆਗਿਆ ਦਿੰਦੀ ਹੈ।ਉਦਾਹਰਨ ਲਈ, 1064 nm ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਧਾਤਾਂ 'ਤੇ ਡੂੰਘੀ ਉੱਕਰੀ ਲਈ ਆਦਰਸ਼ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ 532 nm ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਪਲਾਸਟਿਕ ਅਤੇ ਕੋਟੇਡ ਧਾਤਾਂ 'ਤੇ ਉੱਚ-ਗੁਣਵੱਤਾ ਵਾਲੀ ਸਤਹ ਉੱਕਰੀ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦੀ ਹੈ। (ਮੂਨ ਐਟ ਅਲ., 1999)।
→ਸਬੰਧਤ ਉਤਪਾਦ:1064nm ਤਰੰਗ-ਲੰਬਾਈ ਦੇ ਨਾਲ CW ਡਾਇਡ-ਪੰਪਡ ਸਾਲਿਡ-ਸਟੇਟ ਲੇਜ਼ਰ
ਹਾਈ ਪਾਵਰ ਫਾਈਬਰ ਲੇਜ਼ਰ ਵੈਲਡਿੰਗ
1000 nm ਦੇ ਨੇੜੇ ਵੇਵ-ਲੰਬਾਈ ਵਾਲੇ ਲੇਜ਼ਰ, ਚੰਗੀ ਬੀਮ ਗੁਣਵੱਤਾ ਅਤੇ ਉੱਚ ਸ਼ਕਤੀ ਵਾਲੇ, ਧਾਤਾਂ ਲਈ ਕੀਹੋਲ ਲੇਜ਼ਰ ਵੈਲਡਿੰਗ ਵਿੱਚ ਵਰਤੇ ਜਾਂਦੇ ਹਨ।ਇਹ ਲੇਜ਼ਰ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਨਾਲ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਅਤੇ ਪਿਘਲਾ ਦਿੰਦੇ ਹਨ, ਉੱਚ-ਗੁਣਵੱਤਾ ਵਾਲੇ ਵੇਲਡ (ਸਾਲਮਿਨੇਨ, ਪੀਲੀ, ਅਤੇ ਪੁਰਟੋਨੇਨ, 2010) ਪੈਦਾ ਕਰਦੇ ਹਨ।
ਹੋਰ ਤਕਨੀਕਾਂ ਨਾਲ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦਾ ਏਕੀਕਰਨ
ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੇ ਹੋਰ ਨਿਰਮਾਣ ਤਕਨਾਲੋਜੀਆਂ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਕਲੈਡਿੰਗ ਅਤੇ ਮਿਲਿੰਗ, ਦੇ ਨਾਲ ਏਕੀਕਰਣ ਨੇ ਵਧੇਰੇ ਕੁਸ਼ਲ ਅਤੇ ਬਹੁਮੁਖੀ ਉਤਪਾਦਨ ਪ੍ਰਣਾਲੀਆਂ ਦੀ ਅਗਵਾਈ ਕੀਤੀ ਹੈ।ਇਹ ਏਕੀਕਰਣ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਤੌਰ 'ਤੇ ਉਦਯੋਗਾਂ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਟੂਲ ਅਤੇ ਡਾਈ ਨਿਰਮਾਣ ਅਤੇ ਇੰਜਣ ਦੀ ਮੁਰੰਮਤ (Nowotny et al., 2010) ਵਿੱਚ ਲਾਭਦਾਇਕ ਹੈ।
ਉਭਰ ਰਹੇ ਖੇਤਰਾਂ ਵਿੱਚ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ
ਲੇਜ਼ਰ ਟੈਕਨਾਲੋਜੀ ਦਾ ਉਪਯੋਗ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ, ਡਿਸਪਲੇ ਅਤੇ ਪਤਲੀ ਫਿਲਮ ਉਦਯੋਗਾਂ ਵਰਗੇ ਉੱਭਰ ਰਹੇ ਖੇਤਰਾਂ ਤੱਕ ਫੈਲਿਆ ਹੋਇਆ ਹੈ, ਨਵੀਆਂ ਸਮਰੱਥਾਵਾਂ ਦੀ ਪੇਸ਼ਕਸ਼ ਕਰਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ, ਉਤਪਾਦ ਸ਼ੁੱਧਤਾ, ਅਤੇ ਡਿਵਾਈਸ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ (ਹਵਾਂਗ ਐਟ ਅਲ., 2022) ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕਰਦਾ ਹੈ।
ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਵਿੱਚ ਭਵਿੱਖ ਦੇ ਰੁਝਾਨ
ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਟੈਕਨੋਲੋਜੀ ਵਿੱਚ ਭਵਿੱਖੀ ਵਿਕਾਸ ਨਾਵਲ ਨਿਰਮਾਣ ਤਕਨੀਕਾਂ, ਉਤਪਾਦ ਗੁਣਾਂ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾਉਣ, ਇੰਜੀਨੀਅਰਿੰਗ ਏਕੀਕ੍ਰਿਤ ਮਲਟੀ-ਮਟੀਰੀਅਲ ਕੰਪੋਨੈਂਟਸ ਅਤੇ ਆਰਥਿਕ ਅਤੇ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਤਮਕ ਲਾਭਾਂ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣ 'ਤੇ ਕੇਂਦ੍ਰਿਤ ਹਨ।ਇਸ ਵਿੱਚ ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਪੋਰੋਸਿਟੀ, ਹਾਈਬ੍ਰਿਡ ਵੈਲਡਿੰਗ, ਅਤੇ ਧਾਤ ਦੀਆਂ ਚਾਦਰਾਂ ਦੀ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਫਾਈਲ ਕਟਿੰਗ (ਕੁਕਰੇਜਾ ਐਟ ਅਲ., 2013) ਦੇ ਨਾਲ ਬਣਤਰਾਂ ਦਾ ਲੇਜ਼ਰ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਨਿਰਮਾਣ ਸ਼ਾਮਲ ਹੈ।
ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਤਕਨਾਲੋਜੀ, ਇਸਦੇ ਵਿਭਿੰਨ ਉਪਯੋਗਾਂ ਅਤੇ ਨਿਰੰਤਰ ਨਵੀਨਤਾਵਾਂ ਦੇ ਨਾਲ, ਨਿਰਮਾਣ ਅਤੇ ਸਮੱਗਰੀ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਦੇ ਭਵਿੱਖ ਨੂੰ ਰੂਪ ਦੇ ਰਹੀ ਹੈ।ਇਸਦੀ ਬਹੁਪੱਖੀਤਾ ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਇਸ ਨੂੰ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਉਦਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਲਾਜ਼ਮੀ ਸੰਦ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ, ਰਵਾਇਤੀ ਨਿਰਮਾਣ ਤਰੀਕਿਆਂ ਦੀਆਂ ਸੀਮਾਵਾਂ ਨੂੰ ਅੱਗੇ ਵਧਾਉਂਦੀ ਹੈ।
Lazov, L., Angelov, N., & Teirumnieks, E. (2019)।ਲੇਜ਼ਰ ਟੈਕਨੋਲੋਜੀਕਲ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਵਿੱਚ ਨਾਜ਼ੁਕ ਪਾਵਰ ਘਣਤਾ ਦੇ ਸ਼ੁਰੂਆਤੀ ਅਨੁਮਾਨ ਲਈ ਵਿਧੀ।ਵਾਤਾਵਰਨ।ਟੈਕਨੋਲੋਜੀਜ਼।ਸਰੋਤ।ਅੰਤਰਰਾਸ਼ਟਰੀ ਵਿਗਿਆਨਕ ਅਤੇ ਪ੍ਰੈਕਟੀਕਲ ਕਾਨਫਰੰਸ ਦੀਆਂ ਕਾਰਵਾਈਆਂ. ਲਿੰਕ
ਪਟੇਲ, ਆਰ., ਵੇਨਹੈਮ, ਐਸ., ਤਜਾਹਜੋਨੋ, ਬੀ., ਹਲਮ, ਬੀ., ਸੁਗੀਅਨਟੋ, ਏ., ਅਤੇ ਬੋਵਤਸੇਕ, ਜੇ. (2011)।532nm ਕੰਟੀਨਿਊਅਸ ਵੇਵ (CW) ਅਤੇ ਮਾਡਲਲਾਕਡ Quasi-CW ਲੇਜ਼ਰ ਸਰੋਤਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ ਲੇਜ਼ਰ ਡੋਪਿੰਗ ਚੋਣਵੇਂ ਐਮੀਟਰ ਸੋਲਰ ਸੈੱਲਾਂ ਦੀ ਹਾਈ-ਸਪੀਡ ਫੈਬਰੀਕੇਸ਼ਨ।ਲਿੰਕ
Kobayashi, M., Kakizaki, K., Oizumi, H., Mimura, T., Fujimoto, J., & Mizoguchi, H. (2017)।ਕੱਚ ਅਤੇ CFRP ਲਈ DUV ਹਾਈ ਪਾਵਰ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ।ਲਿੰਕ
ਮੂਨ, ਐਚ., ਯੀ, ਜੇ., ਰੀ, ਵਾਈ., ਚਾ, ਬੀ., ਲੀ, ਜੇ., ਅਤੇ ਕਿਮ, ਕੇ.-ਐਸ.(1999)।ਇੱਕ KTP ਕ੍ਰਿਸਟਲ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ ਇੱਕ ਫੈਲਣ ਵਾਲੇ ਰਿਫਲੈਕਟਰ-ਟਾਈਪ ਡਾਇਓਡ ਸਾਈਡ-ਪੰਪਡ Nd:YAG ਲੇਜ਼ਰ ਤੋਂ ਕੁਸ਼ਲ ਇੰਟਰਾਕੈਵਿਟੀ ਬਾਰੰਬਾਰਤਾ ਦੁੱਗਣੀ।ਲਿੰਕ
Salminen, A., Piili, H., & Purtonen, T. (2010).ਹਾਈ ਪਾਵਰ ਫਾਈਬਰ ਲੇਜ਼ਰ ਿਲਵਿੰਗ ਦੇ ਗੁਣ.ਮਕੈਨੀਕਲ ਇੰਜੀਨੀਅਰਾਂ ਦੀ ਸੰਸਥਾ ਦੀਆਂ ਕਾਰਵਾਈਆਂ, ਭਾਗ ਸੀ: ਮਕੈਨੀਕਲ ਇੰਜੀਨੀਅਰਿੰਗ ਵਿਗਿਆਨ ਦਾ ਜਰਨਲ, 224, 1019-1029।ਲਿੰਕ
ਮਜੂਮਦਾਰ, ਜੇ., ਅਤੇ ਮੰਨਾ, ਆਈ. (2013)।ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਲੇਜ਼ਰ ਅਸਿਸਟਡ ਫੈਬਰੀਕੇਸ਼ਨ ਦੀ ਜਾਣ-ਪਛਾਣ।ਲਿੰਕ
ਗੋਂਗ, ਐੱਸ. (2012)।ਐਡਵਾਂਸਡ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੀ ਜਾਂਚ ਅਤੇ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਲਿੰਕ
Yumoto, J., Torizuka, K., & Kuroda, R. (2017)।ਲੇਜ਼ਰ-ਮਟੀਰੀਅਲ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਲਈ ਲੇਜ਼ਰ-ਨਿਰਮਾਣ ਟੈਸਟ ਬੈੱਡ ਅਤੇ ਡੇਟਾਬੇਸ ਦਾ ਵਿਕਾਸ।ਲੇਜ਼ਰ ਇੰਜੀਨੀਅਰਿੰਗ ਦੀ ਸਮੀਖਿਆ, 45, 565-570.ਲਿੰਕ
Ding, Y., Xue, Y., Pang, J., Yang, L.-j., & Hong, M. (2019)।ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਲਈ ਇਨ-ਸੀਟੂ ਨਿਗਰਾਨੀ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਵਿੱਚ ਤਰੱਕੀ।ਵਿਗਿਆਨ ਸਿਨਿਕਾ ਫਿਜ਼ਿਕਾ, ਮਕੈਨਿਕਾ ਅਤੇ ਐਸਟ੍ਰੋਨੋਮਿਕਾ. ਲਿੰਕ
ਸਨ, ਐਚ., ਅਤੇ ਫਲੋਰਸ, ਕੇ. (2010)।ਇੱਕ ਲੇਜ਼ਰ-ਪ੍ਰੋਸੈਸਡ Zr-ਅਧਾਰਿਤ ਬਲਕ ਧਾਤੂ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦਾ ਮਾਈਕਰੋਸਟ੍ਰਕਚਰਲ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ।ਧਾਤੂ ਅਤੇ ਸਮੱਗਰੀ ਲੈਣ-ਦੇਣ ਏ. ਲਿੰਕ
Nowotny, S., Muenster, R., Scharek, S., & Beyer, E. (2010)।ਸੰਯੁਕਤ ਲੇਜ਼ਰ ਕਲੈਡਿੰਗ ਅਤੇ ਮਿਲਿੰਗ ਲਈ ਏਕੀਕ੍ਰਿਤ ਲੇਜ਼ਰ ਸੈੱਲ.ਅਸੈਂਬਲੀ ਆਟੋਮੇਸ਼ਨ, 30(1), 36-38.ਲਿੰਕ
ਕੁਕਰੇਜਾ, ਐਲ.ਐਮ., ਕੌਲ, ਆਰ., ਪਾਲ, ਸੀ., ਗਣੇਸ਼, ਪੀ., ਅਤੇ ਰਾਓ, ਬੀ.ਟੀ. (2013)।ਭਵਿੱਖ ਦੇ ਉਦਯੋਗਿਕ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਲਈ ਉਭਰਦੀ ਲੇਜ਼ਰ ਸਮੱਗਰੀ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ ਤਕਨੀਕਾਂ।ਲਿੰਕ
ਹਵਾਂਗ, ਈ., ਚੋਈ, ਜੇ., ਅਤੇ ਹਾਂਗ, ਐਸ. (2022)।ਅਤਿ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ, ਉੱਚ-ਉਪਜ ਨਿਰਮਾਣ ਲਈ ਉਭਰਦੀਆਂ ਲੇਜ਼ਰ-ਸਹਾਇਤਾ ਵੈਕਿਊਮ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ।ਨੈਨੋਸਕੇਲ. ਲਿੰਕ
ਪੋਸਟ ਟਾਈਮ: ਜਨਵਰੀ-18-2024